為了對(duì)結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行高精度檢查（通常用于半導(dǎo)體行業(yè)），可以使用基于干涉效應(yīng)的光學(xué)測(cè)試系統(tǒng)。對(duì)這些設(shè)置的完整模擬需要包括所有物理光學(xué)效應(yīng)，如結(jié)構(gòu)處的衍射、相干性以及在圖像平面上產(chǎn)生的干涉。為了幫助光學(xué)工程師完成這項(xiàng)任務(wù)，快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion提供了一系列工具，包括系統(tǒng)中的衍射和非序列建模。 ^~dvA)bH s IJ37;ZA 隨著新版本2023.1的發(fā)布，我們還提供了一種新的探測(cè)器概念，允許用戶直接根據(jù)場(chǎng)信息計(jì)算可能感興趣的任何物理量。為了了解所有這些工具的是如何工作的，我們展示了以下兩個(gè)示例。在第一個(gè)例子中，使用高NA物鏡檢查非對(duì)稱微結(jié)構(gòu)晶片，而在第二個(gè)例子中我們使用不同形狀的測(cè)試表面顯示了來自經(jīng)典斐索干涉儀的輻照度圖案。 s~6ir f/ 'u2Qq"d+ 用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測(cè)的光學(xué)系統(tǒng)
'Kj8X{BSFb S[ ,r . + 該用例顯示了高NA晶片檢測(cè)系統(tǒng)的快速物理光學(xué)模擬，該系統(tǒng)通常用于半導(dǎo)體工業(yè)中檢測(cè)晶片上的缺陷。 %7?v='s=
Kv:i h=? 光學(xué)檢測(cè)用的斐索干涉儀 [2, u:0
