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    [技術(shù)]基于干涉的光學(xué)測試系統(tǒng) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-05-09
    為了對結(jié)構(gòu)表面進行高精度檢查(通常用于半導(dǎo)體行業(yè)),可以使用基于干涉效應(yīng)的光學(xué)測試系統(tǒng)。對這些設(shè)置的完整模擬需要包括所有物理光學(xué)效應(yīng),如結(jié)構(gòu)處的衍射、相干性以及在圖像平面上產(chǎn)生的干涉。為了幫助光學(xué)工程師完成這項任務(wù),快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion提供了一系列工具,包括系統(tǒng)中的衍射和非序列建模。 PEl]HI_H  
    ^ I YN"yX_  
    隨著新版本2023.1的發(fā)布,我們還提供了一種新的探測器概念,允許用戶直接根據(jù)場信息計算可能感興趣的任何物理量。為了了解所有這些工具的是如何工作的,我們展示了以下兩個示例。在第一個例子中,使用高NA物鏡檢查非對稱微結(jié)構(gòu)晶片,而在第二個例子中我們使用不同形狀的測試表面顯示了來自經(jīng)典斐索干涉儀的輻照度圖案。 BI]t}7  
    20)Il:x  
    用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測的光學(xué)系統(tǒng)
    ]H[\~J  
    -9"Ls?Cu  
    該用例顯示了高NA晶片檢測系統(tǒng)的快速物理光學(xué)模擬,該系統(tǒng)通常用于半導(dǎo)體工業(yè)中檢測晶片上的缺陷。 =1qkoc~  
    2ZeL  
    光學(xué)檢測用的斐索干涉儀 )O Cr6UR  
    借助非連續(xù)場追跡技術(shù)建立了斐索干涉儀,并顯示了來自幾個不同測試表面的干涉條紋。 Mw. +0R!T  
     
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