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    [技術(shù)]基于干涉的光學(xué)測(cè)試系統(tǒng) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-05-09
    為了對(duì)結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行高精度檢查(通常用于半導(dǎo)體行業(yè)),可以使用基于干涉效應(yīng)的光學(xué)測(cè)試系統(tǒng)。對(duì)這些設(shè)置的完整模擬需要包括所有物理光學(xué)效應(yīng),如結(jié)構(gòu)處的衍射、相干性以及在圖像平面上產(chǎn)生的干涉。為了幫助光學(xué)工程師完成這項(xiàng)任務(wù),快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion提供了一系列工具,包括系統(tǒng)中的衍射和非序列建模。 |})v, o B  
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    隨著新版本2023.1的發(fā)布,我們還提供了一種新的探測(cè)器概念,允許用戶(hù)直接根據(jù)場(chǎng)信息計(jì)算可能感興趣的任何物理量。為了了解所有這些工具的是如何工作的,我們展示了以下兩個(gè)示例。在第一個(gè)例子中,使用高NA物鏡檢查非對(duì)稱(chēng)微結(jié)構(gòu)晶片,而在第二個(gè)例子中我們使用不同形狀的測(cè)試表面顯示了來(lái)自經(jīng)典斐索干涉儀的輻照度圖案。 S-[S?&c`  
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    用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測(cè)的光學(xué)系統(tǒng)
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