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說明 rt"\\sOlMB g|W~0A@D 在本例中,我們仿真了使用BaTiO2的鐵電波導(dǎo)調(diào)制器,BaTiO2是一種折射率因外加電場(chǎng)而發(fā)生變化的材料。該器件的結(jié)構(gòu)基于文獻(xiàn)[1]。我們模擬并分析了給定工作頻率下波導(dǎo)調(diào)制器的有效折射率與電壓的關(guān)系。 sO6+L
#! %F03cI, #u#s'W :^l`m9 背景 6MZfoR !I:6L7HdwB 鐵電波導(dǎo)由硅層和玻璃襯底上的BiTiO3(也稱為BTO)層組成。BiTiO3晶體的取向?yàn)榫w的[011]方向平行于光傳播方向(y方向),[001]方向沿著z方向。BiTiO3層的頂部的非晶硅可以形成脊波導(dǎo)結(jié)構(gòu),可以限制橫向(x方向)的光分布。金電極觸點(diǎn)被放置在離非晶硅脊波導(dǎo)兩側(cè)1μm遠(yuǎn)的地方。 !]W6i]p xe}"0'g "ibKi= M[N|HsI8? 在本案例中,我們首先使用CHARGE求解器模擬不同偏置電壓下,波導(dǎo)橫截面上的電場(chǎng)分布。然后,我們根據(jù)對(duì)應(yīng)的電場(chǎng)分布變化來計(jì)算BiTiO3材料折射率的變化,并模擬分析出不同偏置電壓下波導(dǎo)的有效折射率。 HgbJsv$ 7pkc*@t 步驟一:用CHARGE模擬電場(chǎng)分布 *#~3\{ 在建立好模型后,我們將陰極觸點(diǎn)設(shè)置為定值0 V,陽(yáng)極觸點(diǎn)設(shè)置為掃描模式,掃描范圍為1-5 V,掃描點(diǎn)間隔為0.5 V。 n}a# b%e j'~xe3j GAQVeL1 l'c|I
&Y] 設(shè)置完成后,運(yùn)行仿真程序?qū)⒆詣?dòng)進(jìn)行模式,掃描結(jié)果將由電場(chǎng)監(jiān)視器記錄并將數(shù)據(jù)保存在WG_Efield.mat文件中。 nc([e9_9v wN;o++6V #t9&X8:U +>{{91mN 步驟二:使用MODE分析有效折射率 BoFJ8Ukq| 為了計(jì)算不同電壓下鐵電波導(dǎo)的有效折射率,我們需要使用MODE模塊中的FDE求解器。FDE求解器可以分析出各類波導(dǎo)橫截面上的導(dǎo)模和導(dǎo)模對(duì)應(yīng)的各類光學(xué)參數(shù),因此在本步驟中,我們可以使用FDE求解器分析出鐵電波導(dǎo)橫截面有效折射率與偏置電壓的關(guān)系圖。首先,我們將上一步中得到的包含不同偏置電壓下電場(chǎng)分布的WG_Efield.mat文件,通過預(yù)留的接口導(dǎo)入到FDE求解器中,如下圖所示。 eml(F `$Q
$l 1Hzj-u&N/ }&ZO
q'B 在實(shí)現(xiàn)電場(chǎng)數(shù)據(jù)的傳遞后,可以通過控制偏壓參數(shù)(圖中bias_point)來切換不同電壓下的電場(chǎng)分布。這樣我們只需要對(duì)偏振參數(shù)進(jìn)行掃描,就能得到不同電壓下鐵電波導(dǎo)的有效折射率。需要說明的是Lumerical計(jì)算不同電場(chǎng)分布對(duì)BaTiO2材料折射率的影響是通過編寫腳本程序?qū)崿F(xiàn)的,可在上圖setup-script中查看詳細(xì)處理過程。如果使用者需要替換其它鐵電材料或者改變鐵電材料波導(dǎo)傳播方向與電場(chǎng)的角度,可根據(jù)使用情況對(duì)腳本程序進(jìn)行對(duì)應(yīng)修改。 &EZ28k"x %$S.4#G2 掃描完成后,可通過腳本程序提取出波導(dǎo)的有效折射率與偏置電壓的關(guān)系曲線,如下圖所示: Hz28L$ N9_9{M{ _^Rf*G
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