w$8Su
:g=  
建模目的：如何將矩形光柵界面和轉(zhuǎn)變點列界面(Transition Point List Inerface)進行組合，以構(gòu)建復(fù)雜結(jié)構(gòu)光柵，并進行近場分析和內(nèi)部場分析 P|HxD0c^u  
工具箱：光柵工具箱 }7&.FV"  
關(guān)鍵詞：矩形光柵界面 轉(zhuǎn)變點列界面 近場分析 內(nèi)部場分析 E j`  
組合光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)： rT7W_[&P  
使用VirtualLab光柵工具箱進行建模 Cl#PYB{1Y  
0=O(+ yi  
1) 操作如下圖(1)(2)：解決方案(Solutions)/光柵工具箱(Grating Toolbox)/二維光柵仿真(2D Grating Simulations)/自定義光柵光路流程圖(General Grating Light Path Diagram)，生成光柵光路圖, 如下圖(3) OV/H&fe  
-d5b,leC^  
F3+ ;2GG2  
2) 雙擊 ，進入光柵編輯窗口(Edit General Grating 2D)/結(jié)構(gòu)與功能子窗口(Structure/Function)，確定基板材料和厚度，并選擇堆棧界面。 HO[W2b  
EZnXS"z  
3) 進入堆棧界面，即堆棧編輯窗口(Edit)，通過添加(Add)按鈕依次添加平面(Plane Interface)，矩形光柵界面(Rectarngular Grating Interface)以及轉(zhuǎn)變點列界面(Transition Point List Interface)以構(gòu)建矩形組合光柵。 ;]c@%LX  
GPV=(}z  
4) 點擊 ，進入矩形光柵編輯窗口(Edit Rectangular Grating Interface)，輸入光柵一的結(jié)構(gòu)參數(shù)，并將其位置橫向移動(Lateral Shift)1 µm，如下圖所示 San3^uX  
c"D
%c(:4|  
5) 點擊 ，進入轉(zhuǎn)變點列界面(Transition Point List Interface)編輯窗口(Edit Transition Point List Interface)，輸入光柵二和光柵三兩種光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)： :Ywb  
h|~I'M]*  
(1) 通過點擊添加數(shù)據(jù)(Add Datum)增加轉(zhuǎn)變點(transition points)，并給該點對應(yīng)的橫向位置(x-Position)和高度(Height)賦值，以形成所需轉(zhuǎn)變點序列。 `|kW%L4  
E,IeW {6s  
(2) 按照圖6(2)所示設(shè)置所有轉(zhuǎn)變點，然后將插值方法(Interpolation Method)設(shè)置為常量區(qū)間(Constant Interval)。將橫向區(qū)域上限(Upper Limit)設(shè)置為2 µm，并設(shè)置大小與形狀(Size and Shape) 為2 µm x 2µm 長方形(Rectangular)。 `%S 35x9  
3 UUOB.  
(3) 進入周期化標簽(Periodization)，選擇使用周期化設(shè)置(Use Periodization)，并將周期設(shè)置為2 µm x 2µm。可觀察到z-方向，即高度方向最小值(Boundary Minimum)為-800 nm。 Nini8@d  
m8[XA!,  
6) 將平面與矩形光柵界面距離設(shè)置為0，矩形光柵界面（光柵一）與轉(zhuǎn)變點列界面（光柵二和三）之間的距離設(shè)置為800 nm，并將堆棧周期(Stack Period)設(shè)置為2 µm，如下圖所示： \jA#RF.W  
rfo7\'yk  
7) 設(shè)置光學(xué)界面后的介質(zhì)類型(Subsequent Medium)，點擊，進入材料庫，分別將Cr和TiO2介質(zhì)分別用于矩形光柵界面（光柵一）和轉(zhuǎn)變點列光柵界面（光柵二和光柵三）之后，設(shè)置方法如下圖。 Yzr)UJl*I  
7b8+"5~