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    [培訓(xùn)]線下培訓(xùn)——從薄膜原理、設(shè)計(jì)到工藝 上海｜2023年6月30日（五）-7月2日 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-06-21
    @ s2<y@  
    時(shí)間地點(diǎn)：
    XV> )[Nd\H  
    主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司 8QYM/yAM  
    蘇州黌論教育咨詢有限公司 >X"V  
    授課時(shí)間： 2023年6月30日（五）-7月2日（日）共3天  AM 9:00-PM 16:00 xfyUT^  
    授課地點(diǎn)：上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號(hào)中暨大廈18樓1805室 v!EE[[  
    課程講師：訊技光電高級(jí)工程師&資深顧問(wèn) vtS [Tkk|A  
    課程費(fèi)用：4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開票稅金、午餐)
    課程概要：
    c/q -WEKL  
    當(dāng)收到需求者的光學(xué)規(guī)格及非光學(xué)規(guī)格如環(huán)境測(cè)試要求時(shí)，既可以著手選用所需的基板，鍍膜材料及膜數(shù)與厚度設(shè)計(jì)。設(shè)計(jì)開始可以從標(biāo)準(zhǔn)膜系著手，例如高反射鏡不管波寬大小，開始我們一定是以四分之一波膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)，倘若是截止濾光片，則應(yīng)以對(duì)稱膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)。當(dāng)初始設(shè)計(jì)無(wú)法滿足要求時(shí)，我們需要考慮商業(yè)軟件或自行設(shè)計(jì)電腦軟件來(lái)參與合成或優(yōu)化，設(shè)計(jì)好之后，即刻進(jìn)行制造成功率分析，亦看膜層厚度的誤差值的容許度，若是鍍膜機(jī)的精密度做不到，則要修改設(shè)計(jì)，重新分析直達(dá)合格為止。 O$Z<R:vVA  
    透明塑料基板質(zhì)輕價(jià)廉，而且容易成型為非球面透鏡，被廣泛采用在光學(xué)系統(tǒng)中，如眼睛鏡片、相機(jī)透鏡、手機(jī)鏡頭、及顯示器面板，如OLED，近眼顯示應(yīng)用。但塑性及軟性基板的低密度致使其具有吸水性，從而使薄膜與基板的附著性不佳。再者這些塑料基板比較柔軟、容易刮傷、需要鍍上硬膜保護(hù)。因此塑料透鏡的鍍膜除了抗反射，還要兼具免受刮傷的保護(hù)。本課程會(huì)從這些方面重點(diǎn)闡述塑料基底的鍍制工藝及其物理特性。 8={ " j  
    該課程一天會(huì)全面講解光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macelod的操作方法，第二天和第三天會(huì)講解薄膜設(shè)計(jì)和工藝上面的應(yīng)用。
    課程大綱：
    qrtA'fU  
    1. Essential Macleod軟件介紹 GcL:plz  
    1.1 介紹軟件 3\Ma)\>R\-  
    1.2 運(yùn)行程序 C3p/|{TP  
    1.3 創(chuàng)建一個(gè)簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì) BbqH02i  
    1.4 繪圖和制表來(lái)表示性能 >(aGk{e1  
    1.5 3D繪圖-用兩個(gè)變量繪圖表示性能 `Ko6;s#  
    1.6 創(chuàng)建一個(gè)默認(rèn)設(shè)計(jì) lrXi *u]  
    1.7 文件位置 &>. w*  
    1.8 通過(guò)剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù) k5%:L2FO  
    1.9 約定-程序中使用的各種術(shù)語(yǔ)的定義 *75?%l  
    1.10厚度（物理厚度，光學(xué)厚度[FWOT,QWOT]，幾何厚度） e+t2F |xDh  
    1.11 單位定義 z` :uvEX0  
    1.12 軟件如何進(jìn)行數(shù)據(jù)插值 j5yxdjx9  
    1.13 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 9. 7XRxR^  
    1.14 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù) 'kz[Gh*8  
    1.15 交互式繪圖 fq"<=  
    2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ) </OZ,3J=  
    2.1 介質(zhì)和波 C/w!Y)nB=  
    2.2 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 [aK7v{Wu  
    2.3 傾斜入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 8 )w75+&  
    2.4 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響 _26~<gU8  
    2.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)理論 ,%FBELqOW  
    3. 理論技術(shù) c9