在許多的光學(xué)系統(tǒng)中主軸的方向被一平面所限制住。VStack是對(duì)這一類光學(xué)系統(tǒng)特性的計(jì)算工具。在vStack中光源是由一條條是光線所組成并透過(guò)系統(tǒng)進(jìn)行進(jìn)跡的工作，所以可以同時(shí)對(duì)任何傾斜角度的表面計(jì)算反射及穿透。

因?yàn)獒槍?duì)多重表面在方向上變化進(jìn)行針?biāo)�，所以在vStack中是使用生產(chǎn)率(throughput)的方式取代平常使用的反射及穿透系數(shù)。生產(chǎn)率(throughput)是來(lái)自光束透過(guò)系統(tǒng)所得到。使用者只需要簡(jiǎn)單的定義表面的順序，表面的角度及反射與穿透等參數(shù)。VStack將會(huì)針對(duì)此系統(tǒng)所有的入射角度進(jìn)行計(jì)算。vStack里面也提供了可調(diào)整的入射光束角度，而不需要改變vStack。光學(xué)系統(tǒng)大部份都會(huì)包含一些傾斜的表面，所以就會(huì)顯現(xiàn)出極化的特性。因此橢圓儀(ellipsometeric)的項(xiàng) 及 將會(huì)被計(jì)算。使用 及 是因?yàn)樗鼈兪仟?dú)立于表面間距的絕對(duì)值。

此類幾何結(jié)構(gòu)將會(huì)造成在儀器表面上同時(shí)發(fā)生的p及s極化光。當(dāng)光束方向?yàn)榕c平面有一傾斜角，透過(guò)skew angle，這個(gè)問(wèn)題就不會(huì)再發(fā)生。一些光線，原本為s極化光從系統(tǒng)射出時(shí)將會(huì)成為p極化光，而一些p極化光將會(huì)成為p極化光。我們稱此一效應(yīng)為極化泄漏(polarization leakage)，其第一階正比于 skew angle。因此我們可以得到一新的效能參數(shù)極化泄漏參數(shù)(polarization leakage coeffiecinet)，來(lái)描述此一效應(yīng)。鍍膜設(shè)計(jì)將會(huì)影向極化泄漏參數(shù)，同時(shí)也有可能影向反射及穿透系數(shù)，而且此類參數(shù)為再定義(refinable)之參數(shù)在vStack的計(jì)算是非常簡(jiǎn)易的，所需要設(shè)定的部份只有一道光束。在許多系統(tǒng)中，包含角度，多層膜，分光器。為了讓此類系統(tǒng)的參數(shù)能夠最佳化，必須進(jìn)行corefinement這項(xiàng)功能。在vStack可利用許多的merit函數(shù)來(lái)進(jìn)行自動(dòng)化再調(diào)整的工作。

想象我們?cè)僭O(shè)定一個(gè)復(fù)雜的vStack，其表面為不同的傾斜表，且其光線為部份反射部份穿透，也許將會(huì)是一項(xiàng)吃力的工作。這種設(shè)計(jì)很容易的各項(xiàng)表面很容易的被錯(cuò)誤的安排，使得光束無(wú)法打到正確的位置，或就此消失。為了確定vStack的特色，使其更容易，所以其中提供了一個(gè)圖形工具。這個(gè)自動(dòng)描繪vStack的配置工具，顯示出光線在穿過(guò)系統(tǒng)，其方向及在各表面上之效應(yīng)。使用此一工具將使建構(gòu)vStack更為容易。