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摘要 \(ju0qFqH {Zf 9}
!qF 組件內(nèi)部光場分析器: FMM使用戶能夠研究微觀和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)的電磁場分布。為此,通過應(yīng)用傅里葉模態(tài)法/嚴格耦合波分析(FMM/RCWA)計算任意周期結(jié)構(gòu),包括透射和反射光柵、介電或金屬光柵。也可以指定領(lǐng)域的哪一部分應(yīng)該可視化:正向模式,反向模式,或兩者結(jié)合。
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