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    [技術(shù)]光柵內(nèi)部光場分析器 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-07-05
    摘要 E{[Y8U1n  
    @k{q[6c2 n  
    組件內(nèi)部光場分析器： FMM使用戶能夠研究微觀和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)的電磁場分布。為此，通過應(yīng)用傅里葉模態(tài)法/嚴(yán)格耦合波分析（FMM/RCWA）計算任意周期結(jié)構(gòu)，包括透射和反射光柵、介電或金屬光柵。也可以指定領(lǐng)域的哪一部分應(yīng)該可視化：正向模式，反向模式，或兩者結(jié)合。 o@N[O^Q V  
    DTH}=r-  
     a& 0g0n6  
    Sed 8Q-m  
    尋找組件內(nèi)部光場分析器： FMM AmC9qk8Q  
    c/ImK`:)4a  
     ~ S<aIk0l  
               A{4,ih"5  
    組件內(nèi)部光場分析器： FMM是光柵光學(xué)設(shè)置的專用功能，它提供了光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。 :[+8(~| za  
     &[{sA;  
    $}vzBuWHwN  
    評估模式 |=ph&9  
       x*:VE57,z  
    JmDxsb^  
    V|@bITJ?7  
    評估區(qū)域 "Y^j=?1k  
    LU;zpXg\  
    bvJ@H Z$  
    {St-  
    光柵類型 VoYL}67c  
    9]Ue%%vM  
    1K#[Ef4  
     dhA~Yu  
    光柵表面的采樣 5.ab/uk;M  
    1#c Tk  
    7b08Lo7b  
    7w2$?k',-  
    光柵表面的采樣 R~iv%+  
    9,~7,Py