一、鍍膜技術(shù)可區(qū)分為哪幾類? F` U~(>u'  
可區(qū)分為：(1)真空蒸鍍 (2)電鍍 (3)化學(xué)反應(yīng) (4)熱處理 (5)物理或機(jī)械處理 3Z b]@n  
二、蒸鍍的加熱方式包括哪幾種?各具有何特點(diǎn)? vF27+/2+R  
加熱方式分為： 3kn-tM  
(1)電阻加熱 (2)感應(yīng)加熱 (3)電子束加熱 (4)雷射加熱 (5)電弧加熱 sey,J5?  
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各具有的特點(diǎn)： ;+9OzF ;  
(1)電阻加熱：這是一種最簡(jiǎn)單的加熱方法，設(shè)備便宜、操作容易是其優(yōu)點(diǎn)。 Oidf\%!mvR  
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(2)感應(yīng)加熱：加熱效率佳，升溫快速，并可加熱大容量。 T}#iXgyx  
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(3)電子束加熱：這種加熱方法是把數(shù)千eV之高能量電子，經(jīng)磁場(chǎng)聚焦，直接撞擊蒸發(fā)物加熱，溫度可以高達(dá)30000C。而它的電子的來(lái)源有二：高溫金屬產(chǎn)生的熱電子，另一種電子的來(lái)源為中空陰極放電。 Q\$3l'W  
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(4)雷射加熱：激光束可經(jīng)由光學(xué)聚焦在蒸鍍?cè)瓷�，產(chǎn)生局部瞬間高溫使其逃離。最早使用的是脈沖紅寶雷射，而后發(fā)展出紫外線準(zhǔn)分子雷射。紫外線的優(yōu)點(diǎn)是每一光子的能量遠(yuǎn)比紅外線高，因此準(zhǔn)分子雷射的功率密度甚高，用以加熱蒸鍍的功能和電子束類似。常被用來(lái)披覆成份復(fù)雜的化合物，鍍膜的品質(zhì)甚佳.它和電子束加熱或?yàn)R射的過(guò)程有基本上的差異，準(zhǔn)分子雷射脫離的是微細(xì)的顆粒，后者則是以分子形式脫離。 1R2IlUlzFr  
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(5)電弧加熱： 'R7 \  
陰極電弧沉積的優(yōu)點(diǎn)為： -> cL)  
(1)蒸鍍速率快，可達(dá)每秒1.0微米 FZHA19Kb  
(2)基板不須加熱 z#*.9/y\^R  
(3)可鍍高溫金屬及陶瓷化合物 [l23b{  
(4)鍍膜密高且附著力佳 #{cy(