有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術(shù)語的意思是用來識(shí)別理想設(shè)計(jì)的和實(shí)際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化，在優(yōu)化過程中，將初始設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化，以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測(cè)量出來的、有問題的膜層性能，但有的時(shí)候會(huì)有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中，經(jīng)常會(huì)有多個(gè)解決方案，但是，由于我們通常會(huì)從中選擇一個(gè)合適的設(shè)計(jì)，所以多個(gè)解決方案很少會(huì)帶來麻煩。在反演工程中，只有一個(gè)正確答案，多個(gè)解決方案可能是災(zāi)難性的，那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案？這一點(diǎn)沒有完全嚴(yán)格的測(cè)試方法，因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識(shí)來評(píng)估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識(shí)和經(jīng)驗(yàn)以及各種不同的約束來指導(dǎo)過程。同時(shí)，作為目標(biāo)的測(cè)量結(jié)果應(yīng)盡可能精確，這一點(diǎn)至關(guān)重要。因此，盡管反演工程本質(zhì)上是一個(gè)優(yōu)化器，但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。 P PZxH}J.  
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我們可以看一個(gè)在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5，我們?cè)诿總�(gè)Ta2O5層中引入誤差，在第四層中，靠近基板厚度+10%，在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計(jì)和錯(cuò)誤設(shè)計(jì)的反射率如圖1所示，其中考慮了基板背面的影響。
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我們要做的第一件事就是通過File-New子菜單設(shè)置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導(dǎo)入正確的設(shè)計(jì)，圖2，Next，圖3，是我們需要的基板，默認(rèn)是從設(shè)計(jì)中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測(cè)量性能為反射率，則應(yīng)使用Wedge屬性。最后，我們需要導(dǎo)入測(cè)量性能。圖4顯示了這個(gè)階段工具的外觀。 0%7c?3#  
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