新型測量工具可提高微芯片生產(chǎn)
MESA+納米技術(shù)研究所的研究人員開發(fā)了一種工具,可以同時測量等離子體源的大小和它發(fā)出的光的顏色。同時測量這兩者,使我們能夠進一步改進光刻機,以制造更小、更快、更先進的芯片。這篇文章在《光學快報》上作為編輯精選而受到關(guān)注。 光刻機是幾乎所有電子設(shè)備都需要的微芯片制造過程中的核心。為了生產(chǎn)最小的芯片,這些機器需要精密工程的透鏡、鏡子和光源。XUV光學集團的助理教授Muharrem Bayraktar解釋說:“傳統(tǒng)上,我們只能看到產(chǎn)生的光量,但為了進一步改進芯片制造過程,我們還想研究這種光的顏色和光源的大小! 極紫外光是由等離子體源發(fā)射的,它是通過將激光對準金屬滴而產(chǎn)生的。通過幾組特殊的鏡子,這種光被對準硅片,以創(chuàng)建可以想象的最小的微芯片。Bayraktar說:“我們希望使等離子體盡可能小。太大了,你就會“浪費”很多光,因為鏡子不能捕捉到所有的光! |