作為最著名的衍射效應(yīng)之一，泰伯(Talbot)效應(yīng)可以用于光刻技術(shù)中以制造周期性納米結(jié)構(gòu)。繼I.-H. Lee等人，我們在六邊形網(wǎng)格上構(gòu)造了一個圓錐形光柵掩膜版，并以深度方式模擬了Talbot圖像的生成。 特別是，由于光刻過程中使用的紫外光是非偏振的，因此我們在示例中演示了如何為VirtualLab Fusion中的光柵模擬建模非偏振光。 Lc?q0x^s  
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