作為最著名的
衍射效應(yīng)之一，泰伯(Talbot)效應(yīng)可以用于光刻技術(shù)中以制造周期性
納米結(jié)構(gòu)。繼I.-H. Lee等人，我們在六邊形網(wǎng)格上構(gòu)造了一個(gè)圓錐形
光柵掩膜版，并以深度方式
模擬了Talbot圖像的生成。 特別是，由于光刻過程中使用的紫外光是非
偏振的，因此我們在示例中演示了如何為
VirtualLab Fusion中的光柵模擬建模非偏振光。
IF36K^K ] dm1Qm 圓錐形相位掩模的Talbot圖像 ?d>P+).
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