1. 摘要
:q= XE$%H lF#Kg!-l 高NA物鏡廣泛用于光刻,顯微等技術(shù)。因此,聚焦
仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。
VirtualLab可以非常便捷地對此類
鏡頭進(jìn)行
光線追跡和場追跡分析。通過場追跡,可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦
光斑失對稱現(xiàn)象。利用
相機(jī)探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究,進(jìn)而加深對矢量效應(yīng)的理解。
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|e\:0O? @emZwN"m 2. 建模任務(wù)
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|, :(3Ml z,NHH):~ 3. 概述
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