摘要 (7$BF~s:,  
yKz%-6cpSl  

圖片:1-2001131145515B.png

g^jTdrW/s  
r&F 6ZCw  
干涉測(cè)量法是一項(xiàng)用于光學(xué)測(cè)量的重要技術(shù)。它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓、缺陷、機(jī)械和熱變形的高精度測(cè)量。作為一個(gè)典型示例，在非序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下，于 VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-澤德干涉儀。該例證明了光學(xué)元件的傾斜和位移對(duì)干涉條紋圖的影響。 ^oE#;aS  
nYBa+>3BDf  
建模任務(wù) niyxZ<Z  
PH^Gj
m  

圖片:1-20011311463NK.png

g`2Oh5dA  
9pWSvalw9  
由于組件傾斜引起的干涉條紋 {DUtdu[  
<LJb,l"  

圖片:1-200113114J9335.png

U+["b-c  
8WKY 4nkj  
由于偏移傾斜引起的干涉條紋 bFH`wLW  
5x,/p  

圖片:1-200113114Q3324.png