Field Inside Component Analyzer: FMM使用戶能夠分析電磁場在微納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的分布。為此，任意周期結(jié)構(gòu)(包括透射和反射、介質(zhì)或金屬光柵)內(nèi)的場通過應(yīng)用傅里葉模態(tài)方法/嚴(yán)格耦合波分析法(FMM/RCWA)來計算。還可以指定場的哪一部分應(yīng)該可視化:前向傳播的場、后向傳播的場或兩者都要可視化。 T)mh  

圖片:1-2310291H5405W.png

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T3  
尋找元件內(nèi)部場分析儀:FMM hx hs>eY  
PBb'`PV  

圖片:1-2310291HG64L.png

CGs5`a  
元件內(nèi)部場分析儀:FMM是光柵光學(xué)設(shè)置的專用功能，可提供光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。 )F m'i&F_  
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圖片:1-2310291H931305.png

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評估模式 9d8U
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So]O`RJv  

圖片:1-2310291H959259.png

J<-2dvq  
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為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以只計算前向或后向傳播模式，或兩者的結(jié)合。 $!K,5^+  
i+~H~k}"X  

圖片:1-2310291I154257.png

N:U

A+  
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          前向傳播模式                    后向傳播模式             前向和后向傳播模式 Bi|-KS.9  
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評估區(qū)域                                                     ?<~P)aVVj  
qhOV>j,d  

圖片:1-2310291I3023G.png

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光柵類型                                                                 N[wyi&m4  
Atod&qH  
元件內(nèi)部場分析儀可以對任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析。這里有幾個例子。 -9yWf8;  
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圖片:1-2310291I531S0.png

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光柵表面采樣 :PP!v
!vk  
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圖片:1-2310291IH2V5.png

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光柵表面采樣                                                                   yD(v_J*  
-XWlmw*i(g  
對光柵結(jié)構(gòu)進(jìn)行充分的采樣意味著采樣效應(yīng)不應(yīng)明顯地影響產(chǎn)生的場。例如，如果RCWA層分解太粗糙，則可能會由于剖面中的大采樣間隔而產(chǎn)生額外的影響。 <v$yXA  
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圖片:1-2310291IP91b.png