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    [技術(shù)]雙折射晶體偏振干涉效應(yīng) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 01-18
    關(guān)鍵詞: 雙折射晶體偏振干涉
    簡介: \d$Rd")w  
    TRCI\  
    本文的目的是介紹FRED的材料性質(zhì)方面一些高級的設(shè)定,這些設(shè)定共分成以下幾個部份。 cS 4T\{B;  
    雙折晶體偏振干涉 kpWzMd &RK  
    光源偏振設(shè)置 +yIL[D  
     雙折射材料方向和其他設(shè)定 u m{e&5jk  
     干涉結(jié)果和光線性質(zhì)查看 'W+i[Ep5Q  
     漸變折射率(GRIN)材料 *sAOpf@M  
     腳本設(shè)置漸變折射率材料 }_vM&.GFlL  
     定性模擬結(jié)果 ?GfxBZWJ  
    #O><A&FrF`  
    雙折射晶體和偏振光干涉 mR!rn^<l  
    |87W*  
    偏振光干涉現(xiàn)象在實際中有很多應(yīng)用,這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實驗,設(shè)置如下圖所示:左側(cè)是偏振光源,偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度,所有光線的反向延長線指向一點。接下來光線經(jīng)過方解石平板,厚2mm,光軸方向沿z 軸。然后光線通過偏振片,偏振片方向與光源方向垂直(xy 平面,與x 夾角-45度),偏振片是通過設(shè)置偏振鍍膜來實現(xiàn)的。最右邊是接收分析面,光線在這里停止,用來計算光強(qiáng)。 [^Q&suy  
    $&Ac5Zo%}  
    圖1. 系統(tǒng)設(shè)置
    ef,F[-2^o  
    下面設(shè)置雙折射材料。在材料文件夾下右擊,選擇新建材料(create a new material),選擇類型為取樣雙折射材料或旋光性物質(zhì)(sampled birefringent and/or optically active material),波長設(shè)置為0.5875618,o光和e光的折射率分別設(shè)為1.66 和 1.49,光軸方向設(shè)置為z軸(0,0,1)。 $BaK'7=3*  
    fYs?D+U;PF  
    圖2. 雙折射材料
    >Ban?3{  
    偏振片是通過偏振鍍膜來實現(xiàn)的,如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾,新建鍍膜,類型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix),然后默認(rèn)的就是沿x軸偏振鍍膜。 ?}v}U^  
    YVJ+' A=|  
    *H?t;,\