摘要 OfIml.  
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在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中，在光敏層中僅使用一個(gè)圖像。 但是，可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。 在本案例中，按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM，也稱為 RCWA) 對具有一層錐體的相位掩模進(jìn)行建模�？梢詸z測到不同的 Talbot 圖像，在主像平面中會再現(xiàn)柱狀圖案，而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。 z;1yZ4[G  
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圖片:1-220G3232QN13.jpg

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建模任務(wù) 'Ko T8g\b  
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圖片:1-220G3232T1D5.png

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structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)