摘要
mGO>""<: V`[P4k+b 在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中,在光敏層中僅使用一個
圖像。 但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。 在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在
VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM,也稱為 RCWA) 對具有一層錐體的相位掩模進行建模?梢詸z測到不同的 Talbot 圖像,在主像平面中會再現(xiàn)柱狀圖案,而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。
{8 N=WZ :\mRtVH _PV*lK= N};t<Xev 建模任務
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}(^~Fe ^Z#@3= |:N>8%@6c p'g^Wh structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
0Qp[\ia Rjq a_hxrS 系統(tǒng)建模塊
./7v",#*.' p-,Iio+ qi&D+~Gv! (8G$(MK 特定位置的Talbot圖案
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