1. 摘要 Hc>yZ:c;  
*tRsm
"}  
隨著光學(xué)投影系統(tǒng)和激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展，對(duì)光學(xué)器件的專(zhuān)業(yè)化要求越來(lái)越高。微透鏡陣列正是這些領(lǐng)域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學(xué)特性，有必要對(duì)微透鏡陣列后各個(gè)位置的光傳播進(jìn)行模擬。在這個(gè)應(yīng)用案例中，我們將分別研究元件后近場(chǎng)、焦區(qū)以及遠(yuǎn)場(chǎng)特性。 fa/o4S<  
W$,/hB& z  

圖片:1-22010519252X54.png

B[
7,Hy,R  
#prYZcHv:_  
2. 系統(tǒng)配置 nIlTzrf6  
oxeu%wj_  

圖片:1-22010519255B18.png

Xp06sl7 M  
P/[RH e  
3. 系統(tǒng)建模模塊-組件 Xgn
NYy6W  
_{#K  

圖片:1-220105192ANC.png

u1UCe  
Vq-Kl[-|