1. 摘要
{__"Z< 5*pCb,z>q 隨著
光學(xué)投影系統(tǒng)和
激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展，對光學(xué)
器件的專業(yè)化要求越來越高。
微透鏡陣列正是這些領(lǐng)域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學(xué)特性，有必要對微透鏡陣列后各個位置的光傳播進(jìn)行
模擬。在這個應(yīng)用案例中，我們將分別研究元件后近場、焦區(qū)以及遠(yuǎn)場特性。
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