摘要
RQ!kVM@ <Y9e n!3\ 高數(shù)值孔徑
物鏡廣泛用于
光學(xué)光刻、
顯微鏡等。因此,在聚焦
模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種
鏡頭的
光線和光場(chǎng)追跡分析。 通過(guò)光場(chǎng)追跡,可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑,這源于矢量效應(yīng)。 照
相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性,并且可以深入了解矢量效應(yīng)。
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ODA( 入射平面波
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