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摘要 "',;pGg|K :xTm- L 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場(chǎng)，也可以深入研究矢量效應(yīng)。 [ $ uKI,l
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vC^{,?@ 建模任務(wù) W8Wjq
DQ Um4DVg5  2ga8 G4dU 概述 %!AzFL
J|Z wW8[t8%43 •案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。 s| :1z"q •接下來(lái)，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。 kma>'P`G `8tstWYa]Y
 OHW|?hI=[ @Kn@j D; 光線追跡仿真 SjY|aW+wAL FC~%G&K/q^ •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。 S{v]B_N[M •單擊go！ KK5_;< •獲得了3D光線追跡結(jié)果。 Ryygq,>VD. A|]#b? -
 _~D#?cFY6 -rjQ^ze 光線追跡仿真 K3UN#G)U sekei6#fi •然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。 (+cZP&o •單擊go！ A SrRMH[ •結(jié)果得到點(diǎn)圖（二維光線追跡結(jié)果）。 Mu-k vgO`L ^nNpT!o
 LXsZk|IhM n)Cr<^j 場(chǎng)追跡仿真 r{84Y!k~* C^5 V •切換到場(chǎng)追跡，然后選擇“第二代場(chǎng)追跡”作為模擬引擎。 ( ;^>G[ •單擊go！ 6$f\#TR 1
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zUNUH^Il 場(chǎng)追跡仿真（相機(jī)探測(cè)器） ,nCvA%B! u??ti
OK{ •上圖僅顯示Ex和Ey場(chǎng)分量積分的強(qiáng)度。 ~(yW#'G •下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強(qiáng)度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對(duì)較大，因此可見明顯的不對(duì)稱性。 6O.kKhk Ctn? O~u
 ;Zj(**#H >Yk|(!v 場(chǎng)追跡仿真（電磁場(chǎng)探測(cè)器） r\FZ-gk}Q •使用電磁場(chǎng)探測(cè)器可獲得所有電磁場(chǎng)分量。 =$ L+J O 2K
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