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摘要 *e{d^ k ]C+/ 高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此,在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場(chǎng)追跡分析。 通過(guò)光場(chǎng)追跡,可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑,這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性,并且可以深入了解矢量效應(yīng)。 X'4e)E3*O vk:@rOpl
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<; y,4f S*~v9+ 入射平面波 "MZj}}l 波長(zhǎng) 2.08 nm $$`E@\5P 光斑直徑: 3mm @bU(z$eB 沿x方向線偏振 1^rODfY
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