請教一下，鍍膜前的離子源前處理時間多長合適，有什么依據或者判定標準嗎？

和離子源能量強度有關，哪怕同一個離子源，新柵網和舊柵網的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 :#N]s  
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） F"23vG>3  
2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結合力。 kD((1v*D$  
所以也和你清洗效果，清洗方式，鍍膜溫度，鍍膜材料有關。 %qVD-Jln  

一般來說轟擊15分鐘左右就夠，但是還是在進爐前清洗工作一定要仔細，離子源主要為了輔助沉積。

學習一下，新手中

學習了，謝謝各位大神

ouyuu:和離子源能量強度有關，哪怕同一個離子源，新柵網和舊柵網的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 1'1>B  
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） AN)r(86L  
2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結合力。 f @Vd'k<  
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57)  NIp]n[=.q  

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學習了

ouyuu:和離子源能量強度有關，哪怕同一個離子源，新柵網和舊柵網的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是  i(V  
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） &-m}w