據(jù)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告，深圳中科飛測(cè)科技股份有限公司“一種光學(xué)設(shè)備及其對(duì)準(zhǔn)方法和檢測(cè)方法”專利公布，申請(qǐng)公布號(hào)：CN113514477A，申請(qǐng)日2020-04-10。

專利摘要顯示，一種光學(xué)設(shè)備的調(diào)節(jié)方法，光學(xué)設(shè)備包括對(duì)準(zhǔn)參考物和待對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，待對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置包括待對(duì)準(zhǔn)探測(cè)器和鏡頭，待對(duì)準(zhǔn)探測(cè)器用于在待測(cè)物表面形成待對(duì)準(zhǔn)視場(chǎng)區(qū)；該調(diào)節(jié)方法包括：提供參考探測(cè)裝置，用于在待測(cè)物表面形成參考視場(chǎng)區(qū)；使對(duì)準(zhǔn)參考物處于參考視場(chǎng)區(qū)中；根據(jù)對(duì)準(zhǔn)參考物在參考視場(chǎng)區(qū)中的位置，對(duì)參考探測(cè)裝置進(jìn)行第一調(diào)整處理，使對(duì)準(zhǔn)參考物處于參考視場(chǎng)區(qū)中的預(yù)定區(qū)域；第一調(diào)整處理之后，將參考探測(cè)裝置替換為待對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置，待對(duì)準(zhǔn)探測(cè)裝置在待測(cè)物表面形成的待對(duì)準(zhǔn)視場(chǎng)區(qū)處于對(duì)準(zhǔn)參考物的預(yù)定位置。該調(diào)節(jié)方法具有速度快和精度高的優(yōu)點(diǎn)。

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