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    [技術(shù)]用于光波導(dǎo)系統(tǒng)的均勻性探測(cè)器 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 06-17
    摘要                                                               G#CWl),=  
    d|6*1hby  
    在評(píng)估AR/MR(增強(qiáng)或混合現(xiàn)實(shí))設(shè)備中光波導(dǎo)系統(tǒng)的性能時(shí)，眼動(dòng)范圍內(nèi)光線分布的橫向均勻性是最關(guān)鍵的參數(shù)之一。為了在設(shè)計(jì)過程中測(cè)量和優(yōu)化橫向均勻性，VirtualLab Fusion提供了均勻性探測(cè)器，可以進(jìn)行所需的研究。在本文件中，我們將演示可用的選項(xiàng)以及如何操作均勻性探測(cè)器。 4k$BqM1  
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    案例演示                                                                   6576RT  
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    均勻性探測(cè)器   F