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摘要 VjqdKQeVq
'&QT}B 在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中，在光敏層中僅使用一個(gè)圖像。 但是，可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。 在本案例中，按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM，也稱為 RCWA) 對(duì)具有一層錐體的相位掩模進(jìn)行建模�？梢詸z測(cè)到不同的 Talbot 圖像，在主像平面中會(huì)再現(xiàn)柱狀圖案，而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。 4:@|q :DR
Qyjuzfmz  =Yj[MVn >>bYg 建模任務(wù) 5dp#\J@ 5)zB/Ta<  M=WE^v!b v,+l xY structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) W[>Tq
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