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摘要 &hZcjdB *%g*Np_P 在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中,在光敏層中僅使用一個(gè)圖像。 但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。 在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM,也稱為 RCWA) 對(duì)具有一層錐體的相位掩模進(jìn)行建模?梢詸z測(cè)到不同的 Talbot 圖像,在主像平面中會(huì)再現(xiàn)柱狀圖案,而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。 ?Bk"3{hl
g\n@(T$) fOrqY,P' @P)GDB7A 建模任務(wù) _hXadLt -BB
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