-
UID:317649
-
- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2025-02-21
- 在線時間1734小時
-
-
訪問TA的空間加好友用道具
|
摘要 KGDN)@D S$SCW<LuN 在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中,在光敏層中僅使用一個圖像。 但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。 在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM,也稱為 RCWA) 對具有一層錐體的相位掩模進行建模?梢詸z測到不同的 Talbot 圖像,在主像平面中會再現(xiàn)柱狀圖案,而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。 k(G6` dY P]m{\K Vsi:O7|+
} }eSy]r[J 建模任務 ^;
|