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1. 摘要 aoJ&< vl3 `nizGg~1 高NA物鏡廣泛用于光刻,顯微等技術(shù)。因此,聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡,可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究,進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 st+Kz uK :ZzG5[o3 ar^`r!ABEh }F3Z~ 2. 建模任務(wù)
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(`|~/ pD>3c9J'^F d")r^7 3. 概述 4B> l|%
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