-
UID:317649
-
- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2025-02-21
- 在線時間1734小時
-
-
訪問TA的空間加好友用道具
|
1. 摘要 i`@cVYsL J8~hIy6] 高NA物鏡廣泛用于光刻,顯微等技術(shù)。因此,聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡,可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進行靈活全面的研究,進而加深對矢量效應(yīng)的理解。 2*D2jw m%J?5rR3
[6VM4l" c_qox 2. 建模任務(wù) ^IiA(?8 28^/By:J
h{mzYy}b l)$mpMgAD 3. 概述 5]*lH t ByjfPb# A/=cGE 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 E4Q`)6]0 下一步,我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 65
|