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1. 摘要 w|UKMbRMU] \`iW_ _ 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類(lèi)鏡頭進(jìn)行光線(xiàn)追跡和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地觀(guān)察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱(chēng)現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 /{ #_Um0.
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0g*r!aa 2. 建模任務(wù) (Q
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 ~D-OL* 2 uD* s^ 3. 概述 3lrZ-k+S{
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示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 x2IU PM
下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 Ok{:QA ~#
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 :tS>D5dz( kjKpzdbD 4. 光線(xiàn)追跡仿真 lO[jf6gB iJj?~\zp +>9^])K|
首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 \oZUG
點(diǎn)擊“Go!”。 =K< I)2
隨即獲得3D光線(xiàn)追跡結(jié)果 t-gNG!B
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然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。 M$hw(fC|m1
點(diǎn)擊“Go!”。 v]Q _
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