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隨著光刻分辨率的不斷提高，光學(xué)光刻機(jī)中采用的投影物鏡結(jié)構(gòu)型式經(jīng)歷了演變和篩選過(guò)程。在早期的低分辨率光刻機(jī)中，全反射型、全折射型、折反射型多種結(jié)構(gòu)型式并存：在目前的高分辨率光刻機(jī)中，全折射式結(jié)構(gòu)型式是主流。 k]p|kutQCy  
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與全折射式結(jié)構(gòu)型式相比，折反射式結(jié)構(gòu)的投影物鏡具有許多優(yōu)越的光學(xué)性能，但其在光刻機(jī)中的真正使用尚需克服許多技術(shù)問(wèn)題。在現(xiàn)代高分辨率光學(xué)光刻機(jī)中，投影物鏡的結(jié)構(gòu)型式大致分為兩類(lèi)：全折射型和折反射型。 p7QZn.,=u  
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