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    [討論]離子源充氧與充氬有何分別？ [復(fù)制鏈接]

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    離線ken_jinyan1
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    只看該作者 10樓 發(fā)表于: 2013-01-28
    我們公司的GENER1300  配的是霍爾的離子源。廠家調(diào)試的時候用的是O2， ?6yjy<D)$e  
    說的是氧氣和氬氣都是一樣的。  氧氣流量50， 氬氣流量30SCCM，我想問一下 C3*gn}[  
    離子源對膜料折射率是否有影響。
    離線alex_xie
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    只看該作者 11樓 發(fā)表于: 2013-01-30
    使用氬氣，鍍出來的膜層致密性會好一點，可以氧氣氬氣一起用
    離線flyinlove79
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    只看該作者 12樓 發(fā)表于: 2013-02-02
    熱心助人，鼓勵！
    離線ken_jinyan1
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    只看該作者 13樓 發(fā)表于: 2013-02-19
    但是廠家的工程師和我說MGF2不能用離子源，不知道原因。 '>&^zgr  
    如果不能用的話，還怎么冷鍍膜呢？
    離線a060103112
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    只看該作者 14樓 發(fā)表于: 2013-02-27
    回 jiayuch 的帖子
    jiayuch:如果鍍得是氟化鎂  就用氬氣嗎 (2007-04-22 16:21)  Bm"KOr$}-  
    11<Qxu$rL  
    氟化鎂一般不用離子源，只有偶爾冷鍍用，就只加少量氬氣
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    只看該作者 15樓 發(fā)表于: 2017-08-09
    回 j123456789 的帖子
    j123456789:離子源充氧后會產(chǎn)生氧原子和氧離子，它們具有極其強的活性，作為氧化物膜沉積時的輔助，不僅能提高膜層的密度，還能改善其吸收！但，其會降低離子源的壽命�。〕錃鍍H能提高膜層的密度，同時離子源的壽命會相對長！ (2007-04-15 15:49)  d4nH_?