近日，據(jù)國家知識產(chǎn)權局信息顯示，微瀾光學（蘇州）有限公司申請一項名為“一種具有光學間隔層的成像薄膜制備方法”的專利，公開號 CN 118746868 A，申請日期為2024年8月。

專利摘要顯示，本申請揭示一種具有光學間隔層的成像薄膜制備方法，包括：準備一光學間隔層，其中，所述光學間隔層至少包括一輔助層，且所述輔助層能阻止380nm以下光波長的光線透過；在所述光學間隔層的兩個相對表面分別設置第一光學層以及第二光學層；使用I線光波長的光線對第一光學層以及第二光學層進行曝光；對曝光后的第一光學層以及第二光學層進行后處理，使得所述第一光學層形成聚焦層，所述第二光學層形成圖文層。本申請將承載體設置為具有阻止波長在380nm以下的光線通過，或在承載體上設置輔助層達到上述效果，這樣可以在光學間隔的兩側同時進行曝光，其中一側的光不影響另一側光學層，這樣只需對光學間隔層兩側掩膜版對位，這樣在生產(chǎn)過程中對位的誤差極小。

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