課程編號CS240016                                                                             :XY%@n  
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時(shí)間地點(diǎn) 7SHllZ  
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主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司；蘇州黌論教育咨詢有限公司 N 8[rWJ#  
授課時(shí)間：2024年12月4 (三）-6（五）共3天  AM 9:00-PM 16:00 |6Y:W$7k  
授課地點(diǎn)：上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號中暨大廈18樓1805室 C?|sQcCE  
課程講師：訊技光電高級工程師&資深顧問 eA1g}ipm  
課程費(fèi)用：4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開票稅金、午餐) Wq3PN^  
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特邀專家介紹 )r.Wge  
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易葵：中國科學(xué)院上海光機(jī)所正高級工程師，主要從事光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)、制備工藝和測試相關(guān)方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空間激光薄膜、X射線多層膜、真空鍍膜技術(shù)與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國家技術(shù)發(fā)明獎二等獎、上海市技術(shù)發(fā)明獎一等獎、上海市科技進(jìn)步二等獎、軍隊(duì)科技進(jìn)步二等獎等獎項(xiàng)，入選2014年度中科院“現(xiàn)有關(guān)鍵技術(shù)人才”。 OFr"RGW"  
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課程簡介 $?F_Qsy{d  
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隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展，光學(xué)薄膜的應(yīng)用越來越廣泛。光學(xué)薄膜的發(fā)展極大地促進(jìn)了現(xiàn)代光學(xué)儀器性能的提高，其種類非常廣泛，如增透膜，高反膜，分光膜，濾光片等，光學(xué)薄膜器件如今已經(jīng)廣泛應(yīng)用到光通信技術(shù)、光伏產(chǎn)業(yè)技術(shù)、激光技術(shù)、光刻技術(shù)、航空航天技術(shù)等諸多領(lǐng)域。本次課程第一天主要為國際知名的光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macleod的使用，第二天為各種類型的光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)模擬方法，前兩天主講人為訊技光電高級工程師，第三天特別邀請上海光學(xué)精密機(jī)械研究所專家易葵，分享光學(xué)薄膜制備工藝、激光薄膜關(guān)鍵技術(shù)以及光學(xué)薄膜的測量方法等相關(guān)內(nèi)容。 "1gIR^S%9  
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課程大綱 m u9,vH  
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1. Essential Macleod軟件介紹1.1 介紹軟件 drAJ-ii  
1.2 創(chuàng)建一個簡單的設(shè)計(jì)1.3 繪圖和制表來表示性能 DTC IVLV  
1.4 通過剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù)1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） |vd|;" `  
1.6 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù)1.7 交互式繪圖 B-LV/WJ_  
2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)2.1 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 HBp??.r  
2.2 后表面對光學(xué)薄膜特性的影響3. 材料管理 3_@IE2dA  
3.1 材料模型3.2 介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 e5AsX.kvB  
3.3 金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取3.4 基板光學(xué)常數(shù)的提取 /HUT6B  
4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)優(yōu)化方法4.1 參考波長與g }uMu8)Q  
4.2 四分之一規(guī)則4.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 ED8
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4.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納4.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展 eY`z\I  
4.6 Macleod軟件的設(shè)計(jì)與優(yōu)化功能4.6.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置 $|7"9W}m*  
4.6.2 優(yōu)化方法（單一優(yōu)化，合成優(yōu)化，模擬退火法，共軛梯度法，準(zhǔn)牛頓法，針形優(yōu)化，差分演化法）4.6.3 膜層鎖定和鏈接 (A2ga):Pk  
5. 光學(xué)薄膜系統(tǒng)設(shè)計(jì)與分析案例與應(yīng)用5.1 減反射薄膜 #*:1C