課程編號(hào)CS240016                                                                             <!K2xb-d^  
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時(shí)間地點(diǎn) z]Z>+|  
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主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司；蘇州黌論教育咨詢有限公司 X.,SXNS+B  
授課時(shí)間：2024年12月4 (三）-6（五）共3天  AM 9:00-PM 16:00 d#I'9O0&  
授課地點(diǎn)：上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號(hào)中暨大廈18樓1805室 17H_>a
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課程講師：訊技光電高級(jí)工程師&資深顧問(wèn) tHXt*tzq  
課程費(fèi)用：4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開(kāi)票稅金、午餐) H]"Z_n_  
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特邀專家介紹 Mc~(S$FU$  
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易葵：中國(guó)科學(xué)院上海光機(jī)所正高級(jí)工程師，主要從事光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)、制備工藝和測(cè)試相關(guān)方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空間激光薄膜、X射線多層膜、真空鍍膜技術(shù)與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國(guó)家技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)、上海市技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)、上海市科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)、軍隊(duì)科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng)，入選2014年度中科院“現(xiàn)有關(guān)鍵技術(shù)人才”。 x+nrdW+  

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課程簡(jiǎn)介 ~m[^|w  
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隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展，光學(xué)薄膜的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。光學(xué)薄膜的發(fā)展極大地促進(jìn)了現(xiàn)代光學(xué)儀器性能的提高，其種類非常廣泛，如增透膜，高反膜，分光膜，濾光片等，光學(xué)薄膜器件如今已經(jīng)廣泛應(yīng)用到光通信技術(shù)、光伏產(chǎn)業(yè)技術(shù)、激光技術(shù)、光刻技術(shù)、航空航天技術(shù)等諸多領(lǐng)域。本次課程第一天主要為國(guó)際知名的光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macleod的使用，第二天為各種類型的光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)模擬方法，前兩天主講人為訊技光電高級(jí)工程師，第三天特別邀請(qǐng)上海光學(xué)精密機(jī)械研究所專家易葵，分享光學(xué)薄膜制備工藝、激光薄膜關(guān)鍵技術(shù)以及光學(xué)薄膜的測(cè)量方法等相關(guān)內(nèi)容。 HV&N(;@  
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課程大綱 it5].A&  
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1. Essential Macleod軟件介紹1.1 介紹軟件 WUGPi'x  
1.2 創(chuàng)建一個(gè)簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)1.3 繪圖和制表來(lái)表示性能 3A4?9>g)KU  
1.4 通過(guò)剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù)1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） <N=
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1.6 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù)1.7 交互式繪圖 DuZ51[3_L  
2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)2.1 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 ~!,'z  
2.2 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響3. 材料管理 vC$[Zm  
3.1 材料模型3.2 介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 fa/ '4  
3.3 金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取3.4 基板光學(xué)常數(shù)的提取 E0>4Q\n{  
4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)優(yōu)化方法4.1 參考波長(zhǎng)與g h;^h[q1'  
4.2 四分之一規(guī)則4.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 K`j#'`/KC  
4.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納4.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展 XkCbdb  
4.6 Macleod軟件的設(shè)計(jì)與優(yōu)化功能4.6.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置 M=x/PrY"R  
4.6.2 優(yōu)化方法（單一優(yōu)化，合成優(yōu)化，模擬退火法，共軛梯度法，準(zhǔn)牛頓法，針形優(yōu)化，差分演化法）4.6.3 膜層鎖定和鏈接 {_ww1'|A  
5. 光學(xué)薄膜系統(tǒng)設(shè)計(jì)與分析案例與應(yīng)用5.1 減反射薄膜 ^g~Asz5]  
5.2 分光膜5.3 高反射膜 p44d&9  
5.4 干涉截止濾光片5.5 窄帶濾光片 aIRCz=N
 
5.6 負(fù)濾光片5.7 非均勻膜與Rugate濾光片 K4N~ApLB+  
5.8 仿生蛾眼/復(fù)眼結(jié)構(gòu)5.9 顏色膜 T5-50nU,~  
5.10 Vstack薄膜設(shè)計(jì)示例5.11 Stack應(yīng)用范例說(shuō)明 wP6~HiC  
6. 薄膜性能分析6.1 電場(chǎng)分布 E4HG`_cWb  
6.2 公差與靈敏度分析6.3 反演工程 I&YYw8&  
6.4 均勻性，摻雜/孔隙材料仿真7. 真空技術(shù) =JOu
pw  
7.1 常用真空泵介紹7.2 真空密封和檢漏 6t*pV [  
8. 薄膜制備技術(shù)8.1 常見(jiàn)薄膜制備技術(shù) (".`#909  
9. 薄膜制備工藝9.1 薄膜制備工藝因素 `;*Wt9  
9.2 薄膜均勻性修正技術(shù)9.3 光學(xué)薄膜監(jiān)控技術(shù) 8K]fw{-$L  
10. 激光薄膜10.1 薄膜的損傷問(wèn)題 IpoZ6DB$  
10.2 激光薄膜的制備流程10.3 激光薄膜的制備技術(shù) 4.|]R8Mn  
11. 光學(xué)薄膜特性測(cè)量11.1 薄膜光譜測(cè)量 SvAz9>N4  
11.2 薄膜光學(xué)常數(shù)測(cè)量11.3 薄膜應(yīng)力測(cè)量 be$wGO=Ts  
11.4 薄膜損傷測(cè)量11.5 薄膜形貌、結(jié)構(gòu)與組分分析 "|]'\4UdzQ  

這個(gè)可以有，哈哈哈

這個(gè)好 h1z[ElEeoP  

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