課程編號(hào)CS240016                                                                             #;'*W$Wk2  
/NVyzM51V  
時(shí)間地點(diǎn) 2}ywNVS  
1rh2!4)7  
主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司；蘇州黌論教育咨詢有限公司 QX9['B<  
授課時(shí)間：2024年12月4 (三）-6（五）共3天  AM 9:00-PM 16:00 JOki4N  
授課地點(diǎn)：上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號(hào)中暨大廈18樓1805室 QmsS,Zljo  
課程講師：訊技光電高級(jí)工程師&資深顧問 _%aT3C}k  
課程費(fèi)用：4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開票稅金、午餐) {|Fn<&G  
4{" v  
特邀專家介紹 o^BX:\}  
0#F<JsO|u  
易葵：中國科學(xué)院上海光機(jī)所正高級(jí)工程師，主要從事光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)、制備工藝和測(cè)試相關(guān)方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空間激光薄膜、X射線多層膜、真空鍍膜技術(shù)與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國家技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)、上海市技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)、上海市科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)、軍隊(duì)科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng)，入選2014年度中科院“現(xiàn)有關(guān)鍵技術(shù)人才”。 Z0Qh7xWve  
AE%zqvp>  
課程簡介 J {\]ZPs  
4WQ 96|F  
隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展，光學(xué)薄膜的應(yīng)用越來越廣泛。光學(xué)薄膜的發(fā)展極大地促進(jìn)了現(xiàn)代光學(xué)儀器性能的提高，其種類非常廣泛，如增透膜，高反膜，分光膜，濾光片等，光學(xué)薄膜器件如今已經(jīng)廣泛應(yīng)用到光通信技術(shù)、光伏產(chǎn)業(yè)技術(shù)、激光技術(shù)、光刻技術(shù)、航空航天技術(shù)等諸多領(lǐng)域。本次課程第一天主要為國際知名的光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macleod的使用，第二天為各種類型的光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)模擬方法，前兩天主講人為訊技光電高級(jí)工程師，第三天特別邀請(qǐng)上海光學(xué)精密機(jī)械研究所專家易葵，分享光學(xué)薄膜制備工藝、激光薄膜關(guān)鍵技術(shù)以及光學(xué)薄膜的測(cè)量方法等相關(guān)內(nèi)容。 83{v_M  
I4zm{ 1g  
課程大綱 &)EL%o5  
}z2K"eGt  
1. Essential Macleod軟件介紹1.1 介紹軟件 sAPYQ  
1.2 創(chuàng)建一個(gè)簡單的設(shè)計(jì)1.3 繪圖和制表來表示性能 FsfP^a  
1.4 通過剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù)1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） LeMo")dk\  
1.6 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù)1.7 交互式繪圖 &s&Ha{(!w  
2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)2.1 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 "ScY'<  
2.2 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響3. 材料管理 W-vEh  
3.1 材料模型3.2 介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 et6@);F  
3.3 金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取3.4 基板光學(xué)常數(shù)的提取 x4@IK|CE  
4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)優(yōu)化方法4.1 參考波長與g 0"`|f0}c  
4.2 四分之一規(guī)則4.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 4[K6