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    [技術(shù)]散射方向關(guān)注的區(qū)域-重點采樣技術(shù) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 11-07
    簡介 E>LkJSy=  
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    散射方向關(guān)注的區(qū)域(Scatter Direction Regions of Interest)是有效散射計算的主要部分。它們可以將散射光線引導(dǎo)到只關(guān)注的區(qū)域。在產(chǎn)生散射光線時,F(xiàn)RED評估由散射方向關(guān)注的區(qū)域所朝向的立體角,并處理輻射度,以便于基于BSDF散射模型可以計算正確的通量。本文提供了一個分步過程,用于定位和確定最大效率的散射方向關(guān)注區(qū)域的大小。 ]  ]U<UJ  
    圖1.在光學(xué)表面上具有散射方向關(guān)注的區(qū)域的庫克三片式鏡頭的光線追跡 CK+d!Eg  
    散射方向關(guān)注的區(qū)域在每個表面(Surface)對話框的散射(Scatter)選項卡上指定,如圖2所示。多個散射方向關(guān)注的區(qū)域可以分配給任何給定表面。然而,應(yīng)注意不要給表面分配重疊的多個散射方向關(guān)注的區(qū)域,因為FRED將不會辨別這種重疊,因此散射通量將被過度估算。 +avMX&%  
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    圖2.指定散射方向關(guān)注的區(qū)域的表面散射標(biāo)簽 )m3Uar  
    所有表面在創(chuàng)建時都分配有默認(rèn)的散射方向關(guān)注的區(qū)域。該默認(rèn)值的類型是散射到給定方向(Scatter into a given direction),如圖3所示,其散射到圍繞給定方向朝向給定半角的錐形。方向矢量可以在任何坐標(biāo)系中指定。有關(guān)散點方向關(guān)注區(qū)域類型的完整列表,請參閱FRED的幫助主題-重點采樣(Importance Sampling)。 8LkP)]4^sO  
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    圖3.默認(rèn)重點采樣 pW0dB_  
    根據(jù)其中發(fā)生散射的光學(xué)空間,存在兩種關(guān)注的一般情況。首先,考慮準(zhǔn)直空間的情況,其包括外部平坦窗口,以及無焦和重新成像光學(xué)器件之間的中間空間。在這種空間中,探測器表面尺寸和位置由其尺寸和系統(tǒng)視場(FOV)決定。因此,準(zhǔn)直空間中最有效的散射方向關(guān)注的區(qū)域類型是默認(rèn)的散射到給定方向,同時設(shè)置適當(dāng)?shù)慕嵌取?/span> Rgy- OA  
    BAj-akc f  
    圖4.閉合曲線散射方向關(guān)注的區(qū)域 `A$!]&[~|  
    接下來,考慮光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的光束在其中會聚或發(fā)散的區(qū)域。在這些空間中,散射方向關(guān)注的區(qū)域可以被認(rèn)為是從給定表面看到的探測器的表觀位置和大小。因此,最有效的散射方向關(guān)注的區(qū)域類型是通過閉合曲線散射(Scatter through a closed curve),如圖4所示。本文概述的步驟設(shè)計為確定該閉合曲線的大小和位置。 lH^^77"4Qo  
    p^kUs0$GS  
    關(guān)于圖3和4中的對話框上的其他數(shù)據(jù)(Other Data),反轉(zhuǎn)光線方向(Reverse Ray Directions)、散射光線數(shù)目(Number of Scattered Rays)的選項與本討論相關(guān)。反轉(zhuǎn)光線方向?qū)е律⑸涔饩被引導(dǎo)遠(yuǎn)離散射方向關(guān)注的區(qū)域。 當(dāng)探測器的表觀位置為虛擬時,此選項是必需的。散射光線數(shù)目選項可以設(shè)置每個入射光線散射射線的數(shù)量。此數(shù)值確定了散射光線對散射方向關(guān)注的區(qū)域采樣的程度。 對于相對小的朝向立體角,默認(rèn)10是足夠的。然而,在探測器的表觀形狀高度畸變的情況下,有必要增大該值。 6d[_G$'nk  
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    在會聚和發(fā)散空間中尋找散射方向關(guān)注的區(qū)域 MB ju![n  
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    以下闡述的8個步驟定義了用于在成像系統(tǒng)中找到散射方向關(guān)注的區(qū)域的系統(tǒng)方法。這些步驟可以使用FRED的腳本語言自動完成。 Am0{8 '  
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    1)在目標(biāo)表面的中心創(chuàng)建一個發(fā)射光源。該光源應(yīng)為詳細(xì)光源(Detailed Source),位置類型是隨機(jī)平面(Random Plane),方向類型是一個角度范圍內(nèi)的隨機(jī)方向(Random Directions into an angular range),如圖5所示。通過將光源的起始坐標(biāo)系設(shè)置為目標(biāo)表面的起始坐標(biāo)系,可以容易地定位光源。[注意:根據(jù)目標(biāo)表面局部坐標(biāo)系的方向,可能需要將光線方向(Ray Direction)下的ZDir組件設(shè)置為-1。]給該光源一個接近零的尺寸(紅色箭頭1)和一個足夠的角度擴(kuò)展(紅色箭頭2),足夠從探測器上的任何位置填充系統(tǒng)f錐體。盡管光線會被浪費,但沒關(guān)系。 -ezY=