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3Hr %G4 散射方向關(guān)注的區(qū)域（Scatter Direction Regions of Interest）是有效散射計(jì)算的主要部分。它們可以將散射光線引導(dǎo)到只關(guān)注的區(qū)域。在產(chǎn)生散射光線時(shí)，F(xiàn)RED評(píng)估由散射方向關(guān)注的區(qū)域所朝向的立體角，并處理輻射度，以便于基于BSDF散射模型可以計(jì)算正確的通量。本文提供了一個(gè)分步過(guò)程，用于定位和確定最大效率的散射方向關(guān)注區(qū)域的大小。 n1V *VQV 圖1.在光學(xué)表面上具有散射方向關(guān)注的區(qū)域的庫(kù)克三片式鏡頭的光線追跡 6I< `N
散射方向關(guān)注的區(qū)域在每個(gè)表面（Surface）對(duì)話框的散射（Scatter）選項(xiàng)卡上指定，如圖2所示。多個(gè)散射方向關(guān)注的區(qū)域可以分配給任何給定表面。然而，應(yīng)注意不要給表面分配重疊的多個(gè)散射方向關(guān)注的區(qū)域，因?yàn)镕RED將不會(huì)辨別這種重疊，因此散射通量將被過(guò)度估算。 RdjUw#\33b
[VH t#JuN, QS_xOQ ' 圖2.指定散射方向關(guān)注的區(qū)域的表面散射標(biāo)簽 bT |FJ\aC
所有表面在創(chuàng)建時(shí)都分配有默認(rèn)的散射方向關(guān)注的區(qū)域。該默認(rèn)值的類型是散射到給定方向（Scatter into a given direction），如圖3所示，其散射到圍繞給定方向朝向給定半角的錐形。方向矢量可以在任何坐標(biāo)系中指定。有關(guān)散點(diǎn)方向關(guān)注區(qū)域類型的完整列表，請(qǐng)參閱FRED的幫助主題-重點(diǎn)采樣（Importance Sampling）。 j@f(cRAf# )XWL'':bF 圖3.默認(rèn)重點(diǎn)采樣 q^)(p'
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根據(jù)其中發(fā)生散射的光學(xué)空間，存在兩種關(guān)注的一般情況。首先，考慮準(zhǔn)直空間的情況，其包括外部平坦窗口，以及無(wú)焦和重新成像光學(xué)器件之間的中間空間。在這種空間中，探測(cè)器表面尺寸和位置由其尺寸和系統(tǒng)視場(chǎng)（FOV）決定。因此，準(zhǔn)直空間中最有效的散射方向關(guān)注的區(qū)域類型是默認(rèn)的散射到給定方向，同時(shí)設(shè)置適當(dāng)?shù)慕嵌取?/span> Yp$lc^)c>
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圖4.閉合曲線散射方向關(guān)注的區(qū)域 =>E frma
接下來(lái)，考慮光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的光束在其中會(huì)聚或發(fā)散的區(qū)域。在這些空間中，散射方向關(guān)注的區(qū)域可以被認(rèn)為是從給定表面看到的探測(cè)器的表觀位置和大小。因此，最有效的散射方向關(guān)注的區(qū)域類型是通過(guò)閉合曲線散射（Scatter through a closed curve），如圖4所示。本文概述的步驟設(shè)計(jì)為確定該閉合曲線的大小和位置。 \hV FK6
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關(guān)于圖3和4中的對(duì)話框上的其他數(shù)據(jù)（Other Data），反轉(zhuǎn)光線方向（Reverse Ray Directions）、散射光線數(shù)目（Number of Scattered Rays）的選項(xiàng)與本討論相關(guān)。反轉(zhuǎn)光線方向?qū)е律⑸涔饩�被引導(dǎo)遠(yuǎn)離散射方向關(guān)注的區(qū)域。 當(dāng)探測(cè)器的表觀位置為虛擬時(shí)，此選項(xiàng)是必需的。散射光線數(shù)目選項(xiàng)可以設(shè)置每個(gè)入射光線散射射線的數(shù)量。此數(shù)值確定了散射光線對(duì)散射方向關(guān)注的區(qū)域采樣的程度。 對(duì)于相對(duì)小的朝向立體角，默認(rèn)10是足夠的。然而，在探測(cè)器的表觀形狀高度畸變的情況下，有必要增大該值。 {1 mD(+pJ{
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在會(huì)聚和發(fā)散空間中尋找散射方向關(guān)注的區(qū)域 f3O'lc 3
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以下闡述的8個(gè)步驟定義了用于在成像系統(tǒng)中找到散射方向關(guān)注的區(qū)域的系統(tǒng)方法。這些步驟可以使用FRED的腳本語(yǔ)言自動(dòng)完成。 'DPSM?]fA
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1）在目標(biāo)表面的中心創(chuàng)建一個(gè)發(fā)射光源。該光源應(yīng)為詳細(xì)光源（Detailed Source），位置類型是隨機(jī)平面（Random Plane），方向類型是一個(gè)角度范圍內(nèi)的隨機(jī)方向（Random Directions into an angular range），如圖5所示。通過(guò)將光源的起始坐標(biāo)系設(shè)置為目標(biāo)表面的起始坐標(biāo)系，可以容易地定位光源。[注意：根據(jù)目標(biāo)表面局部坐標(biāo)系的方向，可能需要將光線方向（Ray Direction）下的ZDir組件設(shè)置為-1。]給該光源一個(gè)接近零的尺寸（紅色箭頭1）和一個(gè)足夠的角度擴(kuò)展（紅色箭頭2），足夠從探測(cè)器上的任何位置填充系統(tǒng)f錐體。盡管光線會(huì)被浪費(fèi)，但沒(méi)關(guān)系。 )deuB5kz
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圖5.光線位置和方向的詳細(xì)光源設(shè)置（參考步驟1） uQ}kq7gd
2）使用如圖6所示的高級(jí)光線追跡（Advanced Raytrace）對(duì)話框，追跡該光源到關(guān)注的元件。這應(yīng)該使用明確指定開(kāi)始/停止表面（Specify start/stop surfaces explicitly），如紅色箭頭3所示進(jìn)行。選擇不要執(zhí)行透射/反射操作（Do not perform the transmit/reflect operation）選項(xiàng)，如紅色箭頭4所示。為了防止其他表面的外來(lái)散射干擾計(jì)算，請(qǐng)選擇Suppress ray scattering選項(xiàng)，如紅色箭頭5所示。也可以禁用光線追跡摘要（Raytrace Summary）來(lái)限制打印到FRED的輸出窗口。 4 3YusUv
[注意：高級(jí)光線追跡對(duì)話框是無(wú)模式的，應(yīng)在步驟4中使應(yīng)用/追跡（Apply/Trace）按鈕保持打開(kāi)狀態(tài)。確定按鈕將關(guān)閉對(duì)話框，以便在后續(xù)操作中重新設(shè)置這些選項(xiàng)。 fQ@["b
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