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    [技術(shù)]光學相干斷層掃描的上皮散射自發(fā)熒光強度校正——一個模型的研究 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-11-13
    本文以實驗結(jié)合光學軟件FRED來驗證熒光介質(zhì)上覆蓋散射層的影響,結(jié)合AF-OCT系統(tǒng)能夠減少由于上皮組織增厚引起的假陽性,增強AF疾病檢測的功效。 8 ^2oWC#U(  
    Zn+.;o)E<  
    摘要 4[r0G+  
    'F3f+YD  
    在本文中,我們通過模擬組織的自發(fā)熒光(AF)特性進行了模型的研究。我們組合了光學相干斷層掃描(OCT)和AF成像系統(tǒng),依據(jù)散射層的厚度和濃度來測量AF信號的強度。使用由生成的OCT圖像計算得到的厚度和散射濃度,結(jié)合AF-OCT系統(tǒng)能夠估計由上皮組織散射引起的AF損耗。我們定義了一個校正因子來計算上皮組織中的散射損耗,并且計算了一個校正散射AF信號。我們認為校正散射AF將會減少在早期呼吸道病變檢測中的診斷誤檢率,誤檢是由混合因子產(chǎn)生,如增加的皮層厚度和炎癥。 t9`