案例385（2.0） 2.%)OC!q&5  
({t^/b*8  
關(guān)鍵字：大角度設(shè)計，補償，枕形，桶形，畸變，強度衰減，信號場準(zhǔn)備，衍射光學(xué)元件，損耗，期望光目標(biāo)圖案，迭代傅里葉變換算法 zb9G&'7  
Zo&i0%S\E  
1. 建模描述 JyE-
c}I  
設(shè)計擴散器以在遠(yuǎn)場生成高數(shù)值孔徑光圖案 62R";# K  
 光源參數(shù)： \HLo%]A@M  
— 高斯光源波長：532nm L'{W|Xb+  
— 根據(jù)最終的衍射光學(xué)元件選擇合適的直徑 qK.(wFx  
 系統(tǒng)參數(shù)： g8MW6Y  
— 衍射元件到屏幕距離：z=0.5m '/8/M{`s  
 輸出場要求： 2(DhKHrF  
— 期望光圖案：1.0m×0.5m網(wǎng)格 #E!^oZm<Z  
— 光圖案期望分辨率：±0.5mm xS1n,gTA  
（目標(biāo)平面上相鄰衍射級次間的最小距離：∆xTP=1mm（離軸）） &B(z**+9  
— 目標(biāo)圖案來源于文件 NRtH?&7  
“Sc385_HighNA_DiffuserDesign_01_DesiredLightPattern.bmp” *xNc^&.  
 衍射光學(xué)元件參數(shù)： 9$HKP9G  
— 衍射元件的相位階數(shù)：4 B3ItZojAuw  
>(a35 b$  
2. 設(shè)計類型與步驟 2QaE&8vW  
L/:l>Ko>7  
遠(yuǎn)場應(yīng)用 g0zzDv7~  
優(yōu)化衍射光學(xué)元件用以生成高數(shù)值孔徑角分布。 vz4( k/  
>M2~p&Si  
信息 5m~9Vl-&  
衍射光學(xué)元件在波數(shù)域上生成一個角分布(kx，ky)。 ;"Gy5  
*`+zf7-f  
設(shè)計步驟 G"FO%3&|  
A. 計算衍射光學(xué)元件的像素尺寸、周期和像元數(shù)。 %9>w|%+;U+  
B. 根據(jù)參數(shù)計算結(jié)果預(yù)先設(shè)置傅里葉迭代法優(yōu)化文檔。 rlKR <4H  
C. 根據(jù)靶面上期望的光強分布在波數(shù)域上生成一個具有預(yù)補償角的光分布，并作為設(shè)計目標(biāo)圖形�？梢灶愃频亩�義一個特定的優(yōu)化范圍。 x[{\Aw>$.  
D. 傅里葉迭代法優(yōu)化文件的最終設(shè)置(定義實際的設(shè)計目標(biāo)圖案)。 nu\AEFT  
A. 計算 iUcX\ uW  
1. 根據(jù)信號場沿x方向擴展的一個合理的初始值計算衍射光學(xué)元件的最小像素（特征）尺寸(此處xmax SF僅有0.75m): |-V:#1wR.]  
DehjV6t  
將此值近似到一個可加工尺寸 (∆x’DOE)以兼顧制造者加工過程中對于位置增加以及最小特征尺寸的加工能力。此處近似后，∆x’DOE=320nm。根據(jù) o.!o4&WH  
該值重新計算對應(yīng)的x’max SF值。 @!OXLM   
0
V3dc+t)O  
2. 計算衍射光學(xué)元件最大周期 pmax: tNFw1&  
利用公式   1+*sEIC