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    [技術(shù)]OptiFDTD應(yīng)用:用于光纖入波導(dǎo)耦合的硅納米錐仿真 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-12-11
    介紹 jA "}\^%3  
    ET^?>YsA  
    在高約束芯片上與亞微米波導(dǎo)上耦合光的兩種主要方法是光柵或錐形耦合器。[1] o"Xv)#g&  
    耦合器由高折射率比材料組成,是基于具有納米尺寸尖端的短錐形。[2] 9o,Eq x4J  
    錐形耦合器實際上是光纖和亞微米波導(dǎo)之間的緊湊模式轉(zhuǎn)換器。[2] pbKmFweq  
    錐形耦合器可以是線性[1]或拋物線性[2]過渡。 i>S@C@~  
    選擇Silicon-on-insulator(SOI)技術(shù)作為納米錐和波導(dǎo)的平臺,因為它提供高折射率比,包括二氧化硅層作為光學緩沖器,并允許與集成電子電路兼容。[2] 7s^b@&Le  
    W9l ](Ow  
    FW[|Zq;}  
    i7)J|(N2.  
    [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014) Zf>:h   
    [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003); cKYvNM  
    8i$|j~M a  
    3D FDTD仿真 ;):;H?WS|A  
    '-myOM7  
    `BZ|[ q3  
    模擬的關(guān)鍵部件是來自參考文獻[1]的線性錐形硅波導(dǎo)(160 nm至500 nm寬度變化超過100 um長度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波導(dǎo)中(注意:使用的尺寸減小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便達到更快的模擬時間) >}wFePl  
      為了精確模擬線性錐形硅波導(dǎo),錐形的網(wǎng)格尺寸應(yīng)該要設(shè)置密度大一些,因此在這種情況下使用不均勻的網(wǎng)格。 6,4vs+(|\  
    光源在時域中設(shè)置為CW(  = 1.55 um),在空間域上設(shè)置為高斯橫向分布,并且位于二氧化硅波導(dǎo)的硅紙尖端。 BqJ|l7+  
    注意:模擬時間應(yīng)足夠長,以確保穩(wěn)態(tài)結(jié)果 sm"Rp~[i  
    Qc Wg  
    .hckZx /  
    4wv0~T$;x  
    仿真結(jié)果 (6/aHSXI  
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    ku/vV+&O  
    7/M[T\c  
    頂視圖展示了錐形硅波導(dǎo)的有效耦合。 H3