介紹 jA"}\^%3 ET^?>YsA 在高約束
芯片上與亞微米波導(dǎo)上耦合光的兩種主要方法是
光柵或錐形耦合器。[1]
o"Xv)#g& 耦合器由高折射率比
材料組成,是基于具有
納米尺寸尖端的短錐形。[2]
9o,Eqx4J 錐形耦合器實際上是
光纖和亞微米波導(dǎo)之間的緊湊模式轉(zhuǎn)換器。[2]
pbKmFweq 錐形耦合器可以是線性[1]或拋物線性[2]過渡。
i>S@C@~ 選擇Silicon-on-insulator(SOI)技術(shù)作為納米錐和波導(dǎo)的平臺,因為它提供高折射率比,包括二氧化硅層作為
光學緩沖器,并允許與集成
電子電路兼容。[2]
7s^b@&Le
W9l](Ow FW[|Zq;} i7)J|(N2. [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014)
Zf>:h [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003);
cKYvNM 8i$|j~M a 3D FDTD仿真 ;):;H?WS|A '-myOM7 `BZ|[
q3 要
模擬的關(guān)鍵部件是來自參考文獻[1]的線性錐形硅波導(dǎo)(160 nm至500 nm寬度變化超過100 um長度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波導(dǎo)中(注意:使用的尺寸減小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便達到更快的模擬時間)
>}wFePl 為了精確模擬線性錐形硅波導(dǎo),錐形的網(wǎng)格尺寸應(yīng)該要設(shè)置密度大一些,因此在這種情況下使用不均勻的網(wǎng)格。
6,4vs+(|\ 光源在時域中設(shè)置為CW( = 1.55 um),在空間域上設(shè)置為高斯橫向分布,并且位于二氧化硅波導(dǎo)的硅紙尖端。
BqJ|l7+ 注意:模擬時間應(yīng)足夠長,以確保穩(wěn)態(tài)結(jié)果
sm"Rp~[i QcWg .hckZx / 4wv0~T$;x 仿真結(jié)果 (6/aHSXI }\m.~$|[ ku/vV+&O 7/M[T\c 頂視圖展示了錐形硅波導(dǎo)的有效耦合。
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