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元件內(nèi)部場分析器：FMM允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場分布。為此，使用傅立葉模態(tài)法/嚴(yán)格耦合波分析（FMM/RCWA）計(jì)算周期性結(jié)構(gòu)（透射或反射、電介質(zhì)或金屬）內(nèi)部的場。還可以指定場的哪一部分應(yīng)該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時(shí)顯示。 !LJ4 S  
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元件內(nèi)部場分析儀：FMM !;Vqs/E  
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元件內(nèi)部場分析器：FMM是光柵光學(xué)裝置的獨(dú)有功能，可提供光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。 Ip|=NQL>  
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評估模式的選擇 vP%}XEF  
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為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以僅評估正向或反向傳播模式，或者評估兩者的總和。 L
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評價(jià)區(qū)域的選擇 gu"@*,hL  
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元件內(nèi)部場分析器：FMM可以輸出整個(gè)元件（包括基板）內(nèi)部的場，或者只輸出一個(gè)堆�；蚧鶋K（基板）中的場。 ue*o>iohB  
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不同光柵結(jié)構(gòu)的場分布 ,AH2/^:%c  
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任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)可以通過元件內(nèi)部場分析儀進(jìn)行分析。以下是幾個(gè)例子： 2(f-0or(  
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光柵結(jié)構(gòu)的采樣 Q<Qd*v&-  
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雖然分析儀為輸出數(shù)據(jù)提供了一些采樣選項(xiàng)，但系統(tǒng)中定義的光柵表面必須正確采樣（例如，分解點(diǎn)和過渡點(diǎn)的層數(shù)足夠）。 FXul u6"SX  
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