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[討論]磁控濺射中，磁場該如何做最好的配置 [復(fù)制鏈接]

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離線sorry6741

實(shí)習(xí)生

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2007-05-27

磁控濺射中，磁場該如何做最好的配置，因?yàn)槲覐S的靶材使用時，靶材利用率很差，靠近裡面打的厚、外圍就打的薄，請問到底磁鐵在配置時該如何做最佳配置，是否要研究磁力線分佈

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離線荷塘月色

實(shí)習(xí)生

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只看該作者 1樓發(fā)表于: 2007-07-02

此情況是屬在非平衡磁場的基礎(chǔ)上嚴(yán)重磁力分布不均。而且濺射靶材不宜過厚。

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離線msgt

實(shí)習(xí)生

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只看該作者 2樓發(fā)表于: 2007-07-11

不是很明白

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離線sorry6741

實(shí)習(xí)生

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只看該作者 3樓發(fā)表于: 2007-07-11

濺射靶材為何不宜過厚啊

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離線韓成錫

實(shí)習(xí)生

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只看該作者 4樓發(fā)表于: 2007-07-12

非平衡磁控濺射的磁場本身就是不對稱分布，不管如何調(diào)整總會有一個有效濺射面積問題。由于磁場磁力線的分布，受到轟擊最充分的位置是在距離中心和邊緣均有一定距離的環(huán)形面上；把磁力線調(diào)整到能夠覆蓋靶面更大范圍可以提高一些靶材利用率，但效果有限。

靶材厚度不宜做的太厚。因?yàn)榇艌龇植嫉脑颍瑸R射一段時間后靶面會形成一個環(huán)形凹槽，靶做的越厚利用率就越低（除去環(huán)形部分被濺射掉，中心部分和邊緣部分剩下的越多，浪費(fèi)越嚴(yán)重）