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磁控濺射中,磁場該如何做最好的配置
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磁控濺射中,磁場該如何做最好的配置
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sorry6741
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發(fā)表于: 2007-05-27
磁控濺射中,磁場該如何做最好的配置,因為我廠的靶材使用時,靶材利用率很差,靠近裡面打的厚、外圍就打的薄,請問到底磁鐵在配置時該如何做最佳配置,是否要研究磁力線分佈
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荷塘月色
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1樓
發(fā)表于: 2007-07-02
此情況是屬在非平衡磁場的基礎(chǔ)上嚴(yán)重磁力分布不均。而且濺射靶材不宜過厚。
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msgt
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2樓
發(fā)表于: 2007-07-11
不是很明白
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sorry6741
UID:684
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3樓
發(fā)表于: 2007-07-11
濺射靶材為何不宜過厚啊
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韓成錫
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4樓
發(fā)表于: 2007-07-12
非平衡磁控濺射的磁場本身就是不對稱分布,不管如何調(diào)整總會有一個有效濺射面積問題。由于磁場磁力線的分布,受到轟擊最充分的位置是在距離中心和邊緣均有一定距離的環(huán)形面上;把磁力線調(diào)整到能夠覆蓋靶面更大范圍可以提高一些靶材利用率,但效果有限。
Z[A|SyZp
hSf#;=9'
靶材厚度不宜做的太厚。因為磁場分布的原因,濺射一段時間后靶面會形成一個環(huán)形凹槽,靶做的越厚利用率就越低(除去環(huán)形部分被濺射掉,中心部分和邊緣部分剩下的越多,浪費越嚴(yán)重)
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fineday36
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發(fā)表于: 2009-05-06
我也遇到此類問題,調(diào)整磁鐵相對于靶面的距離,來調(diào)整磁力線,可以改良這種情況
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liulianrui
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6樓
發(fā)表于: 2009-06-02
最好用專業(yè)的軟件來設(shè)計磁場分布,以確定磁鋼的大小、強(qiáng)度、位置和靶材的尺寸。我公司專業(yè)制造磁控濺射靶,材料利用率高,濺射穩(wěn)定。有問題可以直接聯(lián)系我,我們相互切磋
dzmr.liu@126.com
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bislarge
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7樓
發(fā)表于: 2009-06-03
我也知道怎么解決這個問題
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bislarge
UID:185896
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8樓
發(fā)表于: 2009-06-03
可聯(lián)系,,
czbvacuum@163.com
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玻璃人
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9樓
發(fā)表于: 2009-09-08
學(xué)習(xí)了。!
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