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    [討論]磁控濺射中，磁場(chǎng)該如何做最好的配置 [復(fù)制鏈接]

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    離線sorry6741
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2007-05-27
    磁控濺射中，磁場(chǎng)該如何做最好的配置，因?yàn)槲覐S的靶材使用時(shí)，靶材利用率很差，靠近裡面打的厚、外圍就打的薄，請(qǐng)問(wèn)到底磁鐵在配置時(shí)該如何做最佳配置，是否要研究磁力線分佈
     
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    離線荷塘月色
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2007-07-02
    此情況是屬在非平衡磁場(chǎng)的基礎(chǔ)上嚴(yán)重磁力分布不均。而且濺射靶材不宜過(guò)厚。
    離線msgt
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2007-07-11
    不是很明白
    離線sorry6741
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2007-07-11
    濺射靶材為何不宜過(guò)厚啊
    離線韓成錫
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2007-07-12
    非平衡磁控濺射的磁場(chǎng)本身就是不對(duì)稱分布，不管如何調(diào)整總會(huì)有一個(gè)有效濺射面積問(wèn)題。由于磁場(chǎng)磁力線的分布，受到轟擊最充分的位置是在距離中心和邊緣均有一定距離的環(huán)形面上；把磁力線調(diào)整到能夠覆蓋靶面更大范圍可以提高一些靶材利用率，但效果有限。 %K^l]tWa@  
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