MEMS的課程論文，寫得比較認(rèn)真，希望對大家有用^_^ 傳上來掙點(diǎn)分…… ;#G%U!p
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本文主要對具有代表性的三維結(jié)構(gòu)——針形陣列的多種制造工藝作出介紹。包括： Gr(|R a .
1、移動(dòng)掩模深X射線光刻（Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL）技術(shù) 6b Z[Kt
2、改變X射線入射方向的二次曝光方法 ^Dx#7bsDZR
3、水平型正交橫截面技術(shù)（Plane-pattern to cross section transfer，PCT） H%z@h~s>
4、X射線灰色掩模技術(shù) 4o9$bv
并對最新的制造方法：X射線灰色掩模（X-ray gray mask）光刻技術(shù)做詳細(xì)介紹。
